某半导体行业制造厂行业因晶圆洁净流程形成含氨废水处置工艺，用水量200吨/天。废水处置工艺中除化学需氧量外还所含氟化物和氢化物发生器高价属，处置难度很大大。场地尾气直接排放标准规范标准规范的要求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水含量及源于 晶圆冲洗生产废水（注意来历）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序生产废水：含轻微铜、镍等血本属，pH值跌涨大 CMP研磨抛光污废水 ：含硅粒状及高锰酸盐指数 加工鑫霖环保标准流程 分为"物理化学发展+膜隔离+折点氯化"组合起来生产工艺： 预工作 ：加药系统CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 反渗透膜系统性 ：删去0.01μm不低于粒子物 反覆盖精浓 ：将氟化物沉淀至1000mg/L以内 折点氯化 ：精准管控氯加药量，将化学需氧量和转化了为N2 亚铁离子互转 ：后勤保障巨资属未达标 不可能感觉 氯离子保持稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属含氧量超过检测工具限 水中水回用率达75% 活性污泥带来量下降40%